Projection plasma
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La projection de plasma implique la projection d'un matériau fondu ou ramolli à la chaleur sur une surface pour fournir un revêtement, en utilisant des gaz inertes comme gaz plasma et gaz porteur. Dans le procédé de projection au plasma, le matériau à déposer - généralement sous forme de poudre, parfois sous forme de liquide, de suspension ou de fil - est introduit dans le jet de plasma, émanant d'une torche à plasma. Dans le jet, où la température est de l'ordre de 20 000 K ou plus, le matériau est fondu et propulsé vers un substrat. Là, les gouttelettes fondues s'aplatissent, se solidifient rapidement et forment un dépôt. Les gaz plasma typiques sont l'argon, l'hélium, l'azote et l'hydrogène. Un seul gaz ou des mélanges peuvent être utilisés.
Solutions et expertise en matière de projection plasma
- Argon : gaz de procédé essentiel pour la projection de plasma. Complètement inerte et facilement ionisable, il peut être utilisé comme gaz plasma primaire ou comme gaz secondaire avec de l'azote pour augmenter son énergie. Egalement utilisé comme gaz porteur en poudre.
- Hydrogène - utilisé comme gaz de procédé dans les applications de projection de plasma sous atmosphère.
- Hélium - coefficient de transfert thermique et conductivité thermique élevés ; également utilisé comme gaz secondaire avec l'argon dans les applications de projection de plasma.
- Azote - diverses utilisations dans les procédés de projection thermique, en particulier comme gaz porteur.
- Des décennies d'expérience - Nos ingénieurs d'application peuvent vous aider à choisir un système d'alimentation adapté à vos besoins en matière de pression et de volume.
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